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光學熱臺H200-Mini具備4K至1700℃的超寬范圍精確控溫能力。依據目標溫度及應用特點，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、熱電制冷、電阻加熱、紅外加熱、激光加熱等在內的多種前沿溫控解決方案，為復雜變溫實驗提供強大支持。

光學冷熱臺CH600S-XY溫度范圍-190℃~600℃,溫度穩定性±0.1℃，能實現定點、斜率、程序段多模式精準控溫。

超高溫熱臺H1000/H1200具備4K至1700℃的超寬范圍精確控溫能力。依據目標溫度及應用特點，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、熱電制冷、電阻加熱、紅外加熱、激光加熱等在內的多種前沿溫控解決方案，為復雜變溫實驗提供強大支持。

帕爾貼冷熱臺PE120溫度范圍-25℃~120℃,溫度穩定性±0.1℃，能實現定點、斜率、程序段多模式精準控溫。

帕爾貼冷熱臺PE120A-T采用無腔室結構，臺心超薄，載樣臺可自由組合成多工位溫控模組。

超高溫紅外聚焦加熱爐IH1700廣泛應用于材料科學、半導體物理、光電子器件、納米技術、生物光子學、礦物等領域，精確控制樣品溫度并實時測試其光學特性（如顯微圖像、熒光、拉曼、折射率、發光效率等）。